식물, 저온스트레스 극복과정 규명

식물생육 관계없이 작물 재배할 수 있는 토대 마련

식약일보 | 입력 : 2018/05/31 [16:25]

윤대진 교수(건국대학교) 연구팀이 추위에 노출된 식물이 염색체 구조를 변화해 저온 스트레스에 견디는 과정을 규명했다고 과학기술정보통신부(장관 유영민)는 밝혔다.

 

이 연구는 생명과학분야 권위 있는 학술지 PNAS (Proceedings of National Academy of Science USA) 5월 21일 자에 게재됐다.

 

전 세계의 급속한 기후변화가 경작지 면적의 감소와 식량부족 문제를 일으킴에 따라, 많은 연구자들이 식물의 외부저항 능력에 관여하는 유전자 확보 및 재해저항성 작물의 개발을 위해 노력중이다.

 

                                ↑염색질의 재구성을 통한 식물의 추위적응 기전

 

연구팀은 식물이 추위에 노출되면 이를 인지하고 반응하는 단백질을 발견하고, 이를 호스15(HOS15)라고 명명했다.

 

호스15(HOS15) 단백질이 추위를 인지하면 디엔에이(DNA)를 감싸고 있는 염색질의 구조변화를 유도해 냉해 저항성 유전자들의 발현이 증가하고, 이를 통해 식물이 추위에 견디게 된다는 사실을 증명했다.

 

윤대진 교수는 “이 연구는 염색질의 구조 조절이 식물 환경스트레스 저항에 핵심 역할을 한다는 것을 최초로 밝힌 것이며, 식물생육 북방한계선과 관계없이 추운 지역에서 다양한 작물을 재배할 수 있게 되는 데 크게 공헌할 것으로 기대한다.”고 연구의 의의를 설명했다.

 

이 연구는 과학기술정보통신부 기초연구사업(집단연구)의 지원을 받아 수행됐다. 강경남 기자

 

 

 

 

 

 

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